Перейти к содержимому
AkademScholar

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseскороAPI для разработчиков
Авторы

З. А. Исаханов

Последняя известная организация:
Academy of Sciences Republic of Uzbekistan
ORCID:
0000-0003-1038-9147
6
h-индекс
4
i10-индекс
97
Цитирования
23
Работы
Динамика

Показатели по годам

Обзор цитирований

Публикации (столбцы) и цитирования (линия) по годам

  • Публикации
  • Цитирования
013450510152020172018201920202021202220232024202520262017: Публикации 1, Цитирования 22018: Публикации 0, Цитирования 12019: Публикации 4, Цитирования 32020: Публикации 1, Цитирования 112021: Публикации 2, Цитирования 172022: Публикации 1, Цитирования 132023: Публикации 1, Цитирования 162024: Публикации 3, Цитирования 162025: Публикации 0, Цитирования 72026: Публикации 0, Цитирования 5

История цитирований

0510152020172018201920202021202220232024202520262017: Цитирования 22018: Цитирования 12019: Цитирования 32020: Цитирования 112021: Цитирования 172022: Цитирования 132023: Цитирования 162024: Цитирования 162025: Цитирования 72026: Цитирования 5

История публикаций

0134520172018201920202021202220232024202520262017: Публикации 12018: Публикации 02019: Публикации 42020: Публикации 12021: Публикации 22022: Публикации 12023: Публикации 12024: Публикации 32025: Публикации 02026: Публикации 0

Эволюция h-индекса

Накопительный h-индекс по годам

03581020172018201920202021202220232024202520262017: h-индекс 22018: h-индекс 22019: h-индекс 22020: h-индекс 32021: h-индекс 32022: h-индекс 52023: h-индекс 62024: h-индекс 62025: h-индекс 62026: h-индекс 6

Наиболее цитируемые работы

  1. Optimum ion implantation and annealing conditions for stimulating secondary negative ion emission201119 цит.
  2. Energy Threshold of the Atomic and Cluster Sputtering of Some Elements under Bombardment with Cs, Rb, and Na Ions201914 цит.
  3. Effect of the O+2-ion bombardment on the TiN composition and structure201513 цит.
  4. Transmission of electromagnetic waves through thin Cu films201610 цит.
  5. Modification of the Surface Properties of Free Si–Cu Films by Implantation of Active Metal Ions20208 цит.
  6. Effect of implantation of active metal ions on the elemental and chemical compositions of the CdTe surface20156 цит.
  7. Analysis of profiles of atomic distribution over the depth of Si-Me free nanofilm systems20155 цит.
  8. Stimulation of secondary negative ion emission by implantation of alkaline ions into the surface layer of a solid followed by heating20103 цит.
  9. Effect of Co+-ion implantation on the composition and properties of free Si–Cu nanofilm structures20173 цит.
  10. Influence of implantation of O2+ ions on the composition and electronic structure of the W(111) surface20242 цит.
Открыть в AkademIndex →