Перейти к содержимому
AkademScholar

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseскороAPI для разработчиков
Авторы

А.С. Рысбаев

Последняя известная организация:
Tashkent State Technical University named after Islam Karimov
ORCID:
0000-0001-6311-6631
5
h-индекс
4
i10-индекс
91
Цитирования
20
Работы
Динамика

Показатели по годам

Обзор цитирований

Публикации (столбцы) и цитирования (линия) по годам

  • Публикации
  • Цитирования
0134501325385020172018201920202021202220232024202520262017: Публикации 1, Цитирования 22018: Публикации 2, Цитирования 02019: Публикации 2, Цитирования 22020: Публикации 3, Цитирования 42021: Публикации 2, Цитирования 152022: Публикации 0, Цитирования 122023: Публикации 0, Цитирования 122024: Публикации 0, Цитирования 352025: Публикации 0, Цитирования 62026: Публикации 0, Цитирования 2

История цитирований

01325385020172018201920202021202220232024202520262017: Цитирования 22018: Цитирования 02019: Цитирования 22020: Цитирования 42021: Цитирования 152022: Цитирования 122023: Цитирования 122024: Цитирования 352025: Цитирования 62026: Цитирования 2

История публикаций

0134520172018201920202021202220232024202520262017: Публикации 12018: Публикации 22019: Публикации 22020: Публикации 32021: Публикации 22022: Публикации 02023: Публикации 02024: Публикации 02025: Публикации 02026: Публикации 0

Эволюция h-индекса

Накопительный h-индекс по годам

0134520172018201920202021202220232024202520262017: h-индекс 12018: h-индекс 12019: h-индекс 12020: h-индекс 22021: h-индекс 22022: h-индекс 32023: h-индекс 32024: h-индекс 52025: h-индекс 52026: h-индекс 5

Наиболее цитируемые работы

  1. The Influence of Structural Defects in Silicon on the Formation of Photosensitive Mn4Si7–Si❬Mn❭–Mn4Si7 and Mn4Si7–Si❬Mn❭–M Heterostructures201921 цит.
  2. Formation and Electronic Structure of Barium-Monosilicide- and Barium-Disilicide Films202117 цит.
  3. Formation of nanosize silicides films on the Si(111) and Si(100) surfaces by low-energy ion implantation201415 цит.
  4. Effect of thermal and laser annealing on the atom distribution profiles in Si(111) implanted with P+ and B+ ions201712 цит.
  5. Peculiarities of the electron structure of nanosized ion-implanted layers in silicon20149 цит.
  6. On new two-dimensional structures produced on the Si (111) and Si (100) surface upon molecular-beam epitaxy of cobalt and silicon20113 цит.
  7. Theoretical Explanation of the Effect of a Decrease in the Si(111) Plasmon Energy during the Implantation of Ions with a Large Dose20203 цит.
  8. Influence of structural defects in silicon on formation of photosensitive heterostructures Mn4Si7-Si-Mn4Si7 and Mn4Si7-Si-M20183 цит.
  9. Change of electrophysical properties of the Si(111) and Si(100) surface in the process of ion implantation and next annealing20192 цит.
  10. Thin silicide films: producing and properties20042 цит.