Перейти к содержимому
AkademScholar

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseскороAPI для разработчиков
Журнал

Plasma Chemistry and Plasma Processing

ISSN:
0272-4324
1
h-индекс
1
Цитирования
2
Работы
0.00
Ср. цитируемость за 2 года

Сигналы доверия

Присутствует 1 из 3 сигналов

Независимые положительные сигналы — не единый вердикт «хищнический/легитимный», а сходящаяся картина.

  • DOAJ
    Нет данных
    doaj.org
  • Список ВАК (OAK)
    Нет данных
    OAK
  • Действующий ISSN
    Есть
    ISSN

Это информационная пометка, а не официальное решение. Отсутствие сигнала — не штраф: например, региональный журнал может не быть в DOAJ.

Динамика

Показатели по годам

Обзор цитирований

Публикации (столбцы) и цитирования (линия) по годам

  • Публикации
  • Цитирования
0101200620252006: Публикации 1, Цитирования 02025: Публикации 1, Цитирования 1

История цитирований

01200620252006: Цитирования 02025: Цитирования 1

История публикаций

01200620252006: Публикации 12025: Публикации 1

Эволюция h-индекса

Накопительный h-индекс по годам

01200620252006: h-индекс 02025: h-индекс 1

Наиболее цитируемые работы

  1. Computer Simulations to Study the Mechanisms of Cold Plasma-Induced Degradation of Amoxicillin20251 цит.
  2. Effects of Precursors and Plasma Parameters on Fullerene Synthesis in RF Thermal Plasma Reactor20060 цит.