Перейти к содержимому
AkademScholar

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseскороAPI для разработчиков
Журнал

Physical Sciences and Technology

ISSN:
2409-6121
3
h-индекс
25
Цитирования
14
Работы
0.43
Ср. цитируемость за 2 года

Сигналы доверия

Присутствует 1 из 3 сигналов

Независимые положительные сигналы — не единый вердикт «хищнический/легитимный», а сходящаяся картина.

  • DOAJ
    Нет данных
    doaj.org
  • Список ВАК (OAK)
    Нет данных
    OAK
  • Действующий ISSN
    Есть
    ISSN

Это информационная пометка, а не официальное решение. Отсутствие сигнала — не штраф: например, региональный журнал может не быть в DOAJ.

Наиболее цитируемые работы

  1. Modeling and calibration of electrical features of p-n junctions based on Si and GaAs20249 цит.
  2. Clusters of impurity nickel atoms and their migration in the crystal lattice of silicon20237 цит.
  3. The High-temperature analysis of silicon properties with manganese-oxygen binary complexes20243 цит.
  4. The Physical mechanisms of gettering properties of nickel clusters in silicon solar cells20242 цит.
  5. Obtaining manganese silicide films on a silicon substrate by the diffusion method20222 цит.
  6. Determination of the resistance of external parameters to the degradation of the parameters of silicon photocells with input nickel atoms20221 цит.
  7. Optimal regime of the double-sided drift of lithium ions into silicon monocrystal20231 цит.
  8. SN2017ein: bolometric light curve and physical parameters20170 цит.
  9. The fundamental equation of the field theory in De Sitter pulse space20190 цит.
  10. Diamond films obtained on silicone substrates by the CVD method and properties of structures based on them20230 цит.