Thin Solid Films
- ISSN:
- 0040-6090
4
h-индекс
40
Цитирования
19
Работы
0.00
Ср. цитируемость за 2 года
Сигналы доверия
Присутствует 1 из 3 сигналовНезависимые положительные сигналы — не единый вердикт «хищнический/легитимный», а сходящаяся картина.
- DOAJНет данныхdoaj.org
- Список ВАК (OAK)Нет данныхOAK
- Действующий ISSNЕстьISSN
Это информационная пометка, а не официальное решение. Отсутствие сигнала — не штраф: например, региональный журнал может не быть в DOAJ.
Наиболее цитируемые работы
- Comparison of electron irradiation on the formation of surface defects in situ and post thin-film LiF/Si(111) deposition202113 цит.
- Target current spectroscopy of the alkali halides KCl, CsCl and KBr19946 цит.
- Oxide film assisted dopant diffusion in silicon carbide20105 цит.
- Study of polycrystalline CdTe films by contact and contactless pulsed photo-ionization spectroscopy20184 цит.
- Characteristics of thin Sb2Se3 films obtained by the chemical molecular beam deposition method for thin-film solar cells20234 цит.
- Physical properties of thin film Cu2S/ZnxCd1−xS heterojunction solar cells fabricated by aqueous treatment and solid state reaction19843 цит.
- Physical properties of II–VI binary and multi-component compound films and heterostructures fabricated by chemical vapour deposition19882 цит.
- Nanomechanical characterization of bioglass films synthesized by magnetron sputtering20132 цит.
- Fabrication and crystallophysical properties of (ZnSe)x(CdTe)1−x (x = 0−1) multicomponent system films19881 цит.
- Some peculiarities of the crystallization of semiconductor thin films19760 цит.